中证报中证网讯（记者 杨洁）近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司宣布，其Primo Menova™12寸金属刻蚀设备全球首台机已顺利付运国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商。
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中微公司介绍，这台12英寸ICP单腔刻蚀设备Primo Menova™专注于金属刻蚀，可广泛应用于功率半导体、存储器件和先进逻辑芯片的制造，是晶圆厂金属化工艺主要设备之一。Primo Menova™基于中微量产的ICP刻蚀产品Primo Nanova®研发制造，秉承了优异的刻蚀均一性控制，可达到高速率、高选择比及低底层介质损伤等刻蚀性能。
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中微公司始终站在先进制程工艺发展的最前沿，公司等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进存储、先进封装生产线。公司的CCP电容性高能等离子体刻蚀机和ICP电感性低能等离子体刻蚀机可覆盖国内95%以上的刻蚀应用需求，在性能优秀、稳定性高等方面满足了客户先进制程中各类严苛要求。截至2024年年底，公司累计已有超过6000台等离子体刻蚀和化学薄膜设备的反应台，在国内外137条生产线实现量产和大规模重复性销售。
中微公司资深副总裁丛海表示：“中微公司开发的一系列刻蚀设备在性能、稳定性等方面满足了客户的高标准要求，并可覆盖国内大多数的刻蚀应用需求。随着新应用的进一步拓展，我们将继续推进与客户的密切合作交流，通过技术领域的持续创新，不断为客户提供极具竞争力的产品和解决方案，实现稳步发展与深度共赢。”
